Részecskegyorsító Centrum English version

Tandetron Laboratórium


A "Tandetron Laboratórium bővítése kutatási eszközök vásárlásával" című közbeszerzési eljárás dokumentációja letölthető:

Dokumentáció (PDF)


2017.05.05. Korrigendum
Dokumentáció
2017.05.03. Regisztrációs űrlap
2017.04.22. Ellenjegyzett hirdetmény
Hirdetmény áttekintése
EHR
Dokumentáció
2017.04.05. Ajánlati felhívás
Hirdetmény áttekintése
EHR
Dokumentáció


GINOP projekt


Az MTA Atommagkutató Intézet GINOP-2.3.3-15-2016-00005 azonosítószámú, "Világszínvonalú kutatói környezet kialakítása az MTA Atomki új Tandetron Laboratóriumában" című pályázatával támogatást nyert az alábbi projekt megvalósítására.


Az MTA Atomki 2014 májusában helyezte üzembe a High Voltage Engineering Europa BV holland cég által gyártott Tandetron típusú részecskegyorsítót. 2015 januárban beüzemeltük a negatív hidrogén ionokat előállító Duoplazmatron ionforrást az injektor mágnessel és egy egyszerű, ideiglenes kapcsolómágnest. A Tandetron gyorsító működési elvéből fakadóan a negatív ionokból nagyenergiájú pozitív ionnyalábot (ebben az esetben proton nyalábot) állít elő. Ez az egyszerű első elrendezés azonnal lehetővé tette két kutatási nyalábvég megvalósítását: az ionnyaláb kihozatalát a levegőbe és egy nukleáris asztrofizikai nyalábvég összeállítását. A nukleáris asztrofizikai nyalábvégen készült első tudományos eredményt egy poszteren mutattuk be az EuNPC2015 konferencián Groningenben, Hollandiában, amely elnyerte a legjobb poszter díjat ("Best poster prize").


A Tandetron részecskegyorsító.



A kihozott nyalábvég első verziója.




A jelenlegi elrendezés alaprajza.

Középen látható a Tandetron gyorsító. A Duoplazmatron ionforrás és az injektor mágnes a jobb oldalon, a beüzemelés alatt álló nyalábvégek a bal oldalon helyezkednek el. Időközben beszereztünk egy 9 nyalábvég csatlakoztatását lehetővé tévő professzionális kapcsolómágnest is.




A jelenlegi elrendezés fényképe. A kép bal oldalán már látható az elkészült nyalábvég terem, ahová be fogjuk üzemelni a GINOP projekt végére az új nyalábvégeket.



A tervezett elrendezés.

Egy Multicusp ionforrás és egy 90 fokos eltérítő (analizáló) mágnes beszerzésével a gyorsító elrendezése jelentősen átalakul és eléri végső formáját. A Multicusp ionforrás (piros téglalappal jelölve) tartalmazni fog egy +/- 30 fokos eltérítő mágnest, ami lehetővé teszi a hidrogén vagy a hélium ionforrás kiválasztását. A Duoplazmatron ionforrást át fogjuk alakítani cézium sputtering ionforrássá, ami lehetővé teszi nagy tömegszámú negatív ionok előállítását. A Tandetron nagyenergiás oldalára kerül majd a 90 fokos analizáló mágnes. A kapcsoló mágnest a jelenlegi (ideiglenes) helyéről át fogjuk telepíteni az analizáló mágnes kimenetére. A nanoszondát is átköltöztetjük az új helyére, a kapcsoló mágnes jobb oldali 10 fokos kimenetére. A mikroszonda is át fog ide költözni a régi Van de Graaff gyorsítótól, ezáltal sokkal jobb minőségű ionnyalábot fog kapni (stabilitás, nyalábméret, stb). Az új analitikai nyalábvég a kapcsoló mágnes egy másik kimenetére kerül. További nyalábvégek kifejlesztése is lehetővé válik a jelenlegi és a jövőbeli belső és külső felhasználók számára. Az ehhez szükséges vákuumrendszer helyét piros vonalakkal mutatja az ábra.